工業(yè)用反滲透超純水設(shè)備的工藝流程:

    1: 預(yù)處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點(diǎn)

    2: 預(yù)處理－一級(jí)反滲透－二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn)

    3: 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈 －用水點(diǎn)

    4: 預(yù)處理→紫外線(xiàn)殺菌裝置→一級(jí)RO裝置→二級(jí)RO裝置→中間水箱→EDI裝置→脫氧裝置→氮封純水箱→除TOC UV裝置→拋光混床→超濾裝置→用水點(diǎn)

水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí)）

工業(yè)用反滲透超純水工藝的優(yōu)點(diǎn)：

    1 、零部件均采用廠(chǎng)家，質(zhì)量可靠。

    2 、整體化程度高，易于擴(kuò)展，增加膜數(shù)量即可增加處理量。

    3 、自動(dòng)化程度高，遇故障立即自停，具有自動(dòng)保護(hù)功能。

    4 、脫鹽率高，可達(dá) 98 %以上。

    5 、能耗低，運(yùn)行成本低。

    6 、水利用率高，回收率達(dá)到 50 - 75 %。

工業(yè)用反滲透超純水工藝的應(yīng)用范圍：

    1、超純材料和超純?cè)噭┑纳a(chǎn)和清洗。

    2、電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。

    3、電池產(chǎn)品的生產(chǎn)。

    4、半導(dǎo)體產(chǎn)品的生產(chǎn)和清洗。

    5、電路板的生產(chǎn)和清洗。

    6、其他高科技精細(xì)產(chǎn)品的生產(chǎn)。

    7 、結(jié)構(gòu)合理，占地面積少。

    8 、先進(jìn)的膜保護(hù)系統(tǒng)，在設(shè)備關(guān)機(jī)時(shí)，淡化水可自動(dòng)將膜表面的污染物沖洗干凈，延長(zhǎng)膜壽命。

    9 、系統(tǒng)無(wú)易損部件，無(wú)需大量維修，運(yùn)行長(zhǎng)期有效。